YS/T 718-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶

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中国冶金标准情报网 2014-10-31 17:19 评论(0 浏览(899

YS/T 718-2009
中文名称: 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶
   
英文名称: Flat magneting sputtering target--Niobium target for opticalcoating
版本: 标准状态: 现行
中国标准分类
(CNS):
【H63】 国际标准分类
(ICS):
【77.150.99】
发布日期: 2009-12-04
实施日期: 2010-06-01 页数: 6
废止日期:
适用范围: 本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用铌靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单(或合同)内容。本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用铌靶材。
 
 
 
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